5 月 2 日消息，三星電子正為 3nm 芯片訂單與臺積電展開激烈的競爭和碰撞，SF3 是首個采用 GAA-FET 技術(shù)的 3 納米節(jié)點，三星已經(jīng)為目前各大無晶圓廠半導(dǎo)體設(shè)計公司送樣，以此彰顯對性能驗證的信心，試圖重新俘獲客戶的青睞。

三星聲稱，在節(jié)點開發(fā)階段，其生產(chǎn)良率可維持在 60-70% 的范圍內(nèi)。值得一提的是，良率對于吸引客戶非常關(guān)鍵，因為一般的大客戶首先都會基于產(chǎn)能進(jìn)行考慮，其次才是晶圓成本，而目前臺積電產(chǎn)能都已被蘋果占據(jù)。

此前，三星曾因其工程部門2022 年“捏造”良率以贏取客戶業(yè)務(wù)的爭議而備受詬病。三星表示 2023-2024 年將以 3 納米生產(chǎn)為主，即 SF3 (3GAP) 及其改進(jìn)版本 SF3P (3GAP+)，而且該公司還計劃于 2025-2026 年開始推出其 2 納米級別節(jié)點。

據(jù)稱，三星電子獲得的大部分訂單來自需要高性能和低功耗半導(dǎo)體的移動和 HPC 公司，3nm 制程的良率相比最開始量產(chǎn)時也已進(jìn)入穩(wěn)定軌道。根據(jù)IT之家此前報道，三星 3nm 制程工藝已獲英偉達(dá)、高通、IBM、百度等公司訂單。

4 月 30 日，臺積電針對美國大客戶召開北美晶圓代工技術(shù)座談會，公布了下一代晶圓代工先進(jìn)制程量產(chǎn)路線圖。臺積電原本計劃在今年下半年量產(chǎn) N3E，但現(xiàn)已將其推遲到明年。此外，進(jìn)一步升級的 N3P 和 N3X 將于 2025 年開始量產(chǎn)，面向汽車行業(yè)的 N3A 則將于 2026 年開始量產(chǎn)。

一位業(yè)內(nèi)人士表示，“誠然，在半導(dǎo)體行業(yè)具有強(qiáng)大影響力的是臺積電，憑借穩(wěn)定現(xiàn)有先進(jìn)制程良率的經(jīng)驗，在訂單爭奪中領(lǐng)先一步。但在臺積電之前應(yīng)用具有成本優(yōu)勢的 GAA 之前，這將成為一個變數(shù)。”

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